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中國不滿荷蘭擴大曝光機出口管制 批美國針對性脅迫

在美國宣布收緊對製造先進半導體設備所需機器的出口管制後,荷蘭政府也宣布擴大限制半導體製造設備出口,引發北京政府不滿,中國商務部於9月8日回應稱,此舉嚴重威脅全球半導體產業鏈,並批評美國「脅迫個別國家」。

根據《路透社》日前報導,荷蘭最新的新管制措施上路後,將影響半導體生產設備製造商艾司摩爾(ASML)1970i和1980i浸潤式微影系統深紫外光曝光機(DUV,中國譯光刻機)的出口,而兩款機型是ASML所屬DUV產品線的中階位置,可能衝擊中國。

而中國商務部在官方網站以〈商務部新聞發言人就荷蘭半導體出口管制問題答記者問〉為題,回應荷蘭政府的管制新規,指中國與荷蘭近年來就半導體出口管制問題進行了多次且多層級的磋商,並對荷蘭在2023年的半導體出口管制措施基礎上進一步擴大對曝光機的管制範圍表示不滿。

中國商務部也批評美國,稱美國為維護自身全球霸權,近年來不斷泛化國家安全的概念,並以此「脅迫個別國家」縮緊半導體及設備出口管制措施,相關舉措嚴重威脅全球半導體產業鏈與供應鏈穩定,並嚴重損害相關國家和企業的正當權益,因此中方堅決表示反對」。

文章並指出,荷蘭應以維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局的角度出發,尊重市場原則和契約精神,以免有關措施阻礙兩國半導體產業的正常合作,喊話荷蘭不要濫用出口管制措施。

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