荷蘭晶片製造設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）近日公開表示，美國對晶片的嚴厲管控措施，反而可能推動中國自主研發出更先進的光刻機，並強調在過去，先進設備的去向不曾受到政治因素影響，如今卻成為全球最重要的議題之一。
過去一段時間，美國對荷蘭持續施壓，企圖阻止關鍵半導體技術流入中國。去年，荷蘭政府宣布了針對先進製程晶片製造技術的新出口管制措施，艾司摩爾首當其衝。根據該公司今年1月1日的聲明，荷蘭政府撤銷了對NXT:2050i和NXT:2100i刻光系統的出口許可，這將影響少數在中國的客戶。
為了進一步限制中國科技的發展，美國還要求荷蘭政府加強對艾司摩爾在中國境內設備的維修服務的限制。
儘管如此，大陸在過去三個季度仍是艾司摩爾最大的市場，今年第一季，對華出口占到艾司摩爾系統銷售額的49%。艾司摩爾非常擔憂對華出口進一步受限。
富凱指出，這些限制措施會讓中國更有動力開發自己的高端技術（光刻機），「施加的限制越多，越會促使對方自力更生。」（The more you put restrictions, the stronger you invite people to do it themselves.）
根據《華爾街日報》報導，富凱提出的這個觀點事實上在去年已經顯現，華為發布的新款智慧型手機Mate 60 Pro使用了先進的中國國產晶片，而美國限制措施旨在阻止的正是這類晶片。雖然美國商務部長雷蒙多（Gina Raimondo）在4月表示華為的晶片技術較美國落後數年，但Mate 60 Pro的推出仍讓美國官員對出口管制措施的有效性憂心忡忡。
艾司摩爾的最新設備為高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備<
該設備價值約3.81億美元。根據《彭博社》本週稍早報導，ASML今年將向台積電、英特爾和三星，交付這款設備。
報導指出，英特爾已經訂購，並將在12月底把這台機器運送奧勒岡州的工廠；不過目前還不清楚台積電何時會收到這台艾司摩爾的最新設備。
艾司摩爾表示，下一次技術飛躍將是一種能在晶片上打印更小特徵的設備，即超級數值孔徑（Hyper NA）。不過，富凱認為，客戶在未來數年內不會需要這種具有未來主義色彩的設備。在此之前，艾司摩爾預計將受益於市場對較小、性能較強晶片需求的成長，以及美國和歐洲在晶片製造方面的大量支出。
